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硅片表面金屬元素含量的測(cè)定 電感耦合等離子體質(zhì)譜法

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 39145-2020
替代情況:
發(fā)布單位: 國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局 國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 有色金屬技術(shù)經(jīng)濟(jì)研究院等
發(fā)布日期: 2020-10-11
實(shí)施日期: 2021-09-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2020年10月29日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電感耦合等離子體質(zhì)譜法(ICP-MS)測(cè)定硅片表面金屬元素含量的方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅單晶拋光片和硅外延片表面痕量金屬鈉、鎂、鋁、鉀、鈣、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅元素含量的測(cè)定,測(cè)定范圍為108 cm-2~1013cm-2。本標(biāo)準(zhǔn)同時(shí)也適用于硅退火片、硅擴(kuò)散片等無(wú)圖形硅片表面痕量金屬元素含量的測(cè)定。

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